אריג מתכת נוזלי יגן על אסטרונאוטים מפני אבק ירח

אריג מתכת נוזלי יגן על אסטרונאוטים מפני אבק ירח

image provided by pixabay

This post is also available in: enEnglish (אנגלית)

נאס"א חוזרת לעסוק בחקר הירח אחרי יותר מחמישה עשורים, ומשימת ארטמיס הקרבה מסמלת זינוק משמעותי בטכנולוגיה מהפכנית המזינה חקר חלל. סוכנות החלל ניצבת כעת בפני איום מסוכן מאוד, למרות הנראות הפשוטה והלא מאיימת שלו: אבק ירח.

על פי אתר Interesting Engineering, אבק ירח מהווה סיכון משמעותי הן לאסטרונאוטים והן לציוד המשימה על פני הירח. אבק זה עדין אך אגרסיבי, מורכב מסלעים מרוסקים, ויכול להמיט הרס על נוחתי ירח, לסכן את בריאות הנשימה של האסטרונאוטים במקרה והוא נשאף, ולהפריע לתפקוד מכשירים חיוניים. דוגמה להשפעה המזיקה של האבק על הציוד היא שהוא גורם לרדיאטורים להתחמם יתר על המידה ואף להרוס לחלוטין חליפות חלל.

בשנת 2019 הקימה נאס"א את יוזמת החדשנות על פני הירח (Lunar Surface Innovation Initiative – LSII), שמטרתה לעורר עניין וחדשנות בטכנולוגיות לחקר הירח ומתמקדת באופן פעיל באבק ירח.

בעוד שמחקרים קודמים בחנו פתרונות אקטיביים כמו תרסיסי חנקן נוזלי שיסירו אבק ירח מחליפות חלל, כמו גם שיטות פסיביות אחרות כמו משטחים מהונדסים עמידים לאבק, Ph.D. אריף רחמן מצא תשובה "נוזלית" לבעיית האבק של נאס"א. רחמן הציע את השימוש במתכת נוזלית לבנייתLiqMEST  (טקסטיל מגן אלקטרוסטטי ממתכת נוזלית) – מעין בד הדוחה אבק ירח על פי דרישה תוך שמירה על גמישות.

ההשראה של רחמן לגישה חדשנית זו מגיעה מניסיונו הרב עם מתכות נוזליות. "כשנודע לי שלנאס"א יש בעיה עם אבק ירח הנדבק למשטחים ומהווה איום משמעותי על הציוד והאסטרונאוטים, עלה בדעתי שמתכות נוזליות עשויות להציע אפיק פוטנציאלי לפיתוח מגן אלקטרוסטטי או אלקטרודינמי כדי למתן את הבעיות האלה עם אבק ירח", כך אמר.

טכנולוגיית LiqMEST נועדה לשמש כשכבה חיצונית עבור חליפות החלל וכיסויי הבד של נאס"א, מה שהופך אותו לגמיש וניתן למתיחה. רחמן מסביר: "כאשר הטכנולוגיה מופעלת, היא יוצרת שדה חשמלי הדוחה אבק ירח, ומונעת מהאבק להידבק למרקם LiqMEST".

רחמן נעזר בסטודנטים להנדסה מ-HPU ומתכוון לייצר אב טיפוס עד סוף מאי 2024, וברגע שהאבטיפוס יפותח בהצלחה, הוא מתכנן להגיש הצעת מענק מלאה לנאס"א לפיתוח מוצר LiqMEST. רחמן מאמין שטכנולוגיה זו תוביל לעידן חדש של חקר הירח.